Vermes, Anna and Szabó, Zsolt (2014) Nemkonvencionális litográfia plazmonikus nanoszerkezetekkel. In: Mesterpróba 2014, May 29, 2014, Budapest, Hungary.
|
Text
PlasmLitho_Mesterproba_20140408.pdf Download (315kB) | Preview |
Abstract
A jelen munkában egy újszerű plazmonikus nanoszerkezetet mutatunk be, mellyel diffrakciós határ alatti fotolitográfia valósítható meg. A javasolt szerkezet kialakítása a fotoreziszt felszínén önszerveződő nanogömb réteg segítségével történik, melyet a maszkoló gömbrétegen át fémréteg leválasztása követ. A gömbök eltávolítása után a létrejött bow-tie fémrészecske rendszer a fényt lokalizált felületi plazmon rezonancia útján fókuszálja, és a fotorezisztet exponálja. A rezisztben kialakuló intenzitáseloszlást a Maxwell-egyenletek numerikus megoldásával számoltuk, majd kioldási modellek segítségével megbecsültük a rezisztben előhívás után kialakuló profilt. A szimulációk segítségével meghatározhatók a litográfiai elrendezés optimális geometriai és anyag paraméterei, a megvilágító hullámhossz és a kioldási paraméterek a különböző periodikus mintázatok kialakításához.
| Item Type: | Conference or Workshop Item (Paper) |
|---|---|
| Subjects: | Q Science / természettudomány > QC Physics / fizika > QC04 Electricity. Magnetism. Electromagnetism / villamosság, mágnesesség, elektromágnessesség |
| Depositing User: | Dr. Zsolt Szabó |
| Date Deposited: | 20 Sep 2014 17:58 |
| Last Modified: | 31 Mar 2023 09:02 |
| URI: | http://real.mtak.hu/id/eprint/15658 |
Actions (login required)
 |
Edit Item |
